在电子芯片制造领域，对纯水水质要求近乎苛刻。芯片的光刻、蚀刻、清洗等工序中，哪怕是极微量的金属离子、有机物或颗粒杂质，都会导致芯片短路、性能下降甚至报废。东莞市合鑫水处理科技有限公司为某 12 英寸晶圆制造企业定制的 50T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI + 抛光混床” 工艺，将产水电阻率稳定控制在 18.2MΩ・cm，TOC（总有机碳）＜3ppb，颗粒度（≥0.1μm）＜50 个 /ml。设备配备的在线监测系统，可实时检测 12 项关键参数，一旦水质波动立即报警并启动应急处理程序。该企业引入设备后，芯片良品率从 91% 提升至 97.5%，每年减少因水质问题导致的经济损失超 1200 万元，有力保障了芯片的稳定生产。多介质过滤设备结构简单，维护容易。惠州食品厂纯水设备
在电子工业应用中，电子工业对纯水水质要求极高，微量杂质都会影响电子元器件性能和质量。纯水设备为电子芯片制造、电路板生产等环节提供超纯水，用于清洗、蚀刻等工艺，避免杂质残留导致短路、漏电等问题，提高产品良品率，降低生产成本，还用于电子设备冷却防止结垢。合鑫水处理科技针对电子工业需求，推出高精度纯水设备，配备多级过滤和深度除盐系统，可有效去除水中颗粒物质、重金属、有机物等。设备采用模块化设计，便于根据生产规模扩展和升级，且具备实时水质监测和智能控制系统，确保水质持续稳定达标。某大型电路板厂使用合鑫科技的纯水设备后，生产出的电路板良品率从 88% 提升至 95%，年节约成本超百万元。惠州食品厂纯水设备重力过滤设备，为小型企业提供便利。
食品饮料行业中，纯水的质量直接影响产品口感、保质期和安全性。无论是饮料调配、罐头加工，还是乳制品生产，都对水中的矿物质、微生物和有机物含量有着严格要求。合鑫为某饮料企业设计的 30T/H 纯水设备，采用 “UF 超滤 + 反渗透 + 紫外线消毒” 工艺，有效去除水中的胶体、细菌和有机物，产水电导率＜5μS/cm，微生物＜5CFU/ml。设备配备双路供水系统，可分别满足饮料调配和瓶胚清洗的不同需求。该企业使用后，饮料口感更加纯净稳定，产品在保质期内的微生物超标率降为 0，消费者投诉率减少了 75%，明显提升了品牌口碑和市场竞争力。
东莞市合鑫水处理科技有限公司的纯水设备以反渗透（RO）技术为重点，搭配预处理、后处理系统，实现高效净化。反渗透膜孔径达 0.0001μm，能截留水中 99% 以上的无机盐、重金属离子、细菌、病毒及有机物。以某电子厂采购的 10T/H 设备为例，通过 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 反渗透 + 紫外线杀菌” 工艺，原水电导率 800μS/cm 可降至 10μS/cm 以下，完全满足电子元器件清洗用水需求。此外，合鑫自主研发的膜元件抗污染技术，使膜使用寿命延长至 3 - 5 年，较传统产品提升 50%，明显降低企业运维成本。合鑫组合设备，适应不同原水水质。
半导体封装测试环节中，芯片清洗、引线键合、塑封等工序对水质要求极高，微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或性能下降。合鑫为某半导体封装企业定制的 15T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI+0.1μm 终端过滤” 工艺，产水电阻率≥16MΩ・cm，颗粒度（≥0.1μm）＜30 个 /ml，TOC＜8ppb。设备配备的高精度在线监测系统，可实时监控水质变化，并自动调整运行参数。该企业引入设备后，封装产品的良品率从 93% 提升至 98%，每年减少因水质问题导致的损失超 500 万元，增强了企业在半导体封装领域的竞争力。多介质过滤有效去除悬浮物和胶体。化妆品厂纯水设备生产商
超滤预处理，减轻反渗透膜污染。惠州食品厂纯水设备
珠宝首饰加工过程中，清洗、抛光等工序需要使用纯水，以避免水中的杂质和矿物质在珠宝表面残留，影响珠宝的光泽和品质。合鑫为某珠宝加工企业设计的 8T/H 纯水设备，采用 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 反渗透 + 离子交换” 工艺，去除水中的悬浮物、有机物、硬度离子和重金属离子，产水电导率＜8μS/cm，重金属离子＜0.05ppb。设备处理后的纯水用于珠宝首饰的清洗和浸泡，可使珠宝表面更加光洁亮丽，提高珠宝的附加值。该企业使用后，产品的客户满意度提高 30%，订单量稳步增长。惠州食品厂纯水设备
