黑体炉，作为辐射标定的基准，是红外测试实验室或红外热成像产品生产线上的基本设备之一，广泛应用于各种红外光学系统的校准和参数测量。在黑体辐射源的应用和选择中，我们通常要考虑到的黑体的特性有：发射率，稳定性，温度精度和升降温时间。而关乎这些特性的具体描述，就在这下文里啦~在相同温度下，物体辐射的能量和黑体辐射的能量之间的比例被称为发射率。完美的黑体能够吸收外来的全部电磁辐射，并将其全部发射出去，然而要知道，这样的完美黑体并不存在。而对于黑体生产商而言，设计和生产黑体时，都要使其发射率在任何波长都尽可能的接近1，来满足用户进行精确测量的需求。温度范围低于室温，或者高于500℃以上的黑体炉一般采用腔体式构造。靶面式黑体炉BR1450
黑体炉是一种用于高温实验和材料研究的仪器设备，其工作原理基于黑体辐射的特性。黑体是指一个理想的物体，能够吸收所有入射的辐射，并以完全黑体辐射的方式将能量重新辐射出去。黑体炉内部，加热元件产生的热能会被辐射室内的壁吸收，并以黑体辐射的方式重新辐射出去。黑体炉具有广泛的应用领域，例如金属制造业、玻璃制造业、陶瓷制造业和电子行业等。在金属制造业中，黑体炉可以用于金属的加热、熔炼、烘干、热处理等工艺；在玻璃制造业中，黑体炉可用于玻璃的加热和熔化；在陶瓷制造业中，黑体炉则用于陶瓷的烧结、烘干、退火等工艺；在电子行业，黑体炉可用于电子元件、电子器件和集成电路的制造和加工。
中低温黑体炉哪家好按照温度范围黑体炉可分为：低温黑体炉、中温黑体炉和高温黑体炉。
黑体炉的另一个品牌INFRAMET位于波兰，成立于2002年，一家高科技设备制造商，用于测试电光监视系统（热成像仪、夜视设备、可见光近红外摄像机、SWIR成像仪、激光测距仪、激光指示器、多传感器系统、融合系统、紫外摄像机、光学瞄准器）和此类系统的主要模块（图像增强器管、红外焦平面阵列/CCD/CMOS成像传感器、光学物镜）。EO监测系统的质量控制、设计优化、制造和维护需要测试设备。这里就简单介绍一下INFRAMET黑体源，分为腔体和面源
黑体辐射是近代物理史上一只会下金蛋的鹅，是近代物理的摇篮。黑体炉研究的意义还在于这是***一个涉及c, k, h三个普适常数的物理情景。黑体辐射谱抗测量误差的特性带来了辐射标准和***温度参照，谱分布公式对模型的不敏感则使得黑体辐射成为独特的物理研究母题。黑体辐射谱分布公式，普朗克多角度推导过，德拜推导过，艾伦菲斯特推导过，劳厄推导过，洛伦兹和庞加莱深入讨论过，泡利推导过，玻色推导过，爱因斯坦在20多年的时间里多角度推导过且产出**为丰硕，近代还有从相对论角度的推导，每一个角度的推导都带来了物理学的新内容，这包括量子力学、固体量子论、受激辐射、量子统计、相对论统计，等等。认真回顾黑体辐射研究的历史细节，考察其中的思想概念演化。不啻于体验一次教科书式的学（做）物理之旅，比如也可以尝试给出能量局域分立化的简单新证明通常温度范围在室温至500℃以内的，称之为中温黑体炉,普遍采用靶面式结构。
黑体炉的升温和降温时间也是黑体的重要特性，这一点虽然不能改变其测试性能，但能够极大地影响实验或生产效率。1℃的变化如果需要等待5分钟，这个时长会造成实验的拖延或不及时，或生产效率的降低，尤其是在需要不断改变黑体温度的情况下。DIAS的CS1500系列黑体，改变10℃以内的温度需要的温度稳定时间在60秒以内，无论是升温或降温情况下。DIAS的黑体可以在任意时间设置成任意想要的温度，不受步骤流程的约束，在降温过程中（低于0℃）。在选择黑体炉时通常是选择发射率较高的腔式黑体，也要注意黑体腔口直径，温度均匀性和辐射温度不确定度。上海中低温黑体炉
黑体炉由于加热的不均匀、外界环境影响以及加工精度等原因造成了其内部温度场是具有温度梯度的不均匀场。靶面式黑体炉BR1450
当谈及黑体炉的温度精度时，必须考虑以下四个因素：•温度传感器（通常是Pt传感器）•电子测试单元•温度传感器和发射面之间的导热材料•反射率只要以上因素中有一个没能控制好，就不能保证温度精度。问题是温度芯片和发射表面之间的热接触无法测量。这也就是为什么在说明温度精度时，厂家只能说明其温度传感器结合他们测试卡的精度，而不是黑体温度的实际精度。总之，厂家给出的精度也许是一个不错的指导。作为需要慎重考虑的参数，DIAS投入了很大的精力在黑体的反射率以及温度传感器和发射面之间的导热材料上，从而保证黑体的温度精度尽可能的接近温度传感器的精度。靶面式黑体炉BR1450
