皮拉尼真空计,又有翻译为“派蓝尼真空计”,属于热传导式真空计的一种。以下是对皮拉尼真空计的详细介绍:一、历史背景皮拉尼真空计由马塞洛·皮拉尼(Marcello Stefano Pirani)于1906年发明。皮拉尼曾在从事真空灯行业的西门子和哈尔斯克公司工作,当时需要高真空环境来制造灯丝,而生产环境中使用的计量器较为笨重且不便,这促使他发明了更为便捷的真空计。二、工作原理皮拉尼真空计通过加热电阻丝至一定的工作温度,然后监测由于气体粒子与电阻丝碰撞而带走的能量,这种能量损失与电阻丝周围的气体浓度及气体成分成比例关系。当气体分子与加热的金属丝碰撞时,热量从金属丝中传递出来。热损失是气体压力的函数,在低压下,低气体密度提供了低的热导率。因此,提供给元件的电流变得依赖于真空压力,从而可以通过测量的电流间接测量真空值。真空计使用过程中需要注意的事项?天津大气压真空计设备公司

(1)利用气体热学特征类真空计通过测量气体分子在真空中的运动状态或动力学效应来推算真空度,典型**有皮拉尼(Pirani)电阻规和热电偶规。a)皮拉尼电阻规利用热丝在真空中的热传导效应来测量真空度。当真空度发生变化时,热丝的热传导性能会受到影响,进而导致电阻发生变化。通过测量电阻的变化,可以推算出真空度的数值。皮拉尼电阻规具有灵敏度高、测量范围宽等特点。b)热电偶规利用热电效应进行真空度测量的仪器,其**原理在于热电偶的温差电势与周围气体压力的关系。随着真空度的变化,热电偶的温差电势也会相应改变,从而提供关于真空度的信息。热电偶规具有结构简单、操作便捷等特点。苏州高精度真空计原厂家如果怀疑电容真空计出现故障,应及时进行检修或更换。

真空计的安装步骤可能因型号和规格的不同而有所差异,但通常包括以下几个基本步骤:检查设备:在安装前,需要检查真空计及其相关配件是否完整、无损坏,并确保其符合使用要求。选择安装位置:由于真空室中存在潜在的压力梯度,因此应适当选择真空计的安装位置,以确保测量结果的准确性。同时,应确保安装位置便于操作和观察。连接电缆:将真空计的电源线电缆和规管电缆分别插入后面板的相应插座上,并确保连接牢固可靠。对于裸规安装,还需将红线(红夹子)接在电子加速极上,其他两根线(黑夹子)接在灯丝上,屏蔽线接在离子收集极上。接地处理:为确保安全,应将真空计的外壳进行接地处理。这通常是通过将导线连接在机箱的接地端子上来实现的。调试与校准:在安装完成后,需要对真空计进行调试和校准,以确保其测量结果的准确性。调试时,应按照说明书中的要求进行操作,并注意观察真空计的显示情况。
真空计与气体脱附效应材料放气(如橡胶释出H₂O)会导致测量值虚高。解决措施:①选用低放气材料(Viton替代橡胶);②烘烤(150℃可加速脱附);③分离测量(将规管安装在抽气口远端)。超高真空系统放气率需<10⁻¹⁰Pa·m³/s·cm²。18.真空计的电磁兼容性电离规的高压电源(2kV)可能辐射EMI,需屏蔽层≥60dB。MEMS规对RF场敏感,5GHzWi-Fi可能导致±5%读数偏移。航天级真空计需通过MIL-STD-461G标准测试。测量两个腔室压差,量程1~10⁻⁴Pa,精度±0.1%。应用包括检漏仪(氦质谱仪参考端压力监控)和分子泵前级压力控制。硅谐振式传感器(如横河EJA系列)温度稳定性达±0.1%FS/年。温度对皮拉尼真空计测量结果有何影响?

微压差真空计(差压规)测量两个腔室压差,量程1~10⁻⁴Pa,精度±0.1%。应用包括检漏仪(氦质谱仪参考端压力监控)和分子泵前级压力控制。硅谐振式传感器(如横河EJA系列)温度稳定性达±0.1%FS/年。20.真空计的未来发展趋势①量子传感器(NV色心测磁矩变化);②石墨烯膜规(理论极限10⁻¹²Pa);③片上集成(ASIC整合传感与信号处理);④自供电无线真空计(能量收集技术)。NIST正在开发基于冷原子干涉的***真空基准,不确定度目标0.01%。为什么真空计读数不变?江苏高质量真空计公司
如何判断电容真空计是否出现故障?天津大气压真空计设备公司
超高真空测量技术10⁻⁶ Pa以下需抑制规或磁悬浮转子规(Spinning Rotor Gauge)。后者通过转子转速衰减测压力,量程10⁻¹~10⁻⁷ Pa,精度±3%,***测量无需校准。X射线极限(10⁻⁹ Pa)是电离规的理论下限,突破需采用低温量子传感器(如超导腔频率偏移法)。12. 真空计的响应时间特性皮拉尼计响应约1~10秒(热惯性限制);电离规需预热3~5分钟(阴极稳定);电容规**快(<10 ms)。动态压力测量需选择高频响仪表,如MEMS规带宽可达1 kHz。电离规在脉冲压力下可能因电子发射延迟产生相位滞后。天津大气压真空计设备公司
真空泵的工作原理真空泵通过机械或物理方式移除气体分子。旋片泵通过旋转叶片压缩气体排出;涡轮分子泵利用高速叶片撞击气体分子;低温泵则通过冷却表面吸附气体。干泵无油污染,适合洁净环境;扩散泵通过油蒸气喷射带走气体,需配合冷阱使用。选择泵需考虑极限真空、抽速和气体类型。4. 真空在半导体制造中的应用芯片制造需10⁻⁷ Pa超高真空环境。光刻机通过真空避免空气散射紫外线;离子注入在真空中加速掺杂原子;分子束外延(MBE)逐层生长晶体。真空减少杂质污染,确保纳米级精度。一台EUV光刻机包含数十个真空腔室,真空稳定性直接影响5nm以下制程良率。如何判断电容真空计是否出现故障?温州金属真空计设备供应商(1)...