上海陶瓷真空计

真空计的基本分类真空计按测量原理分为***真空计（直接测量压力）和相对真空计（需校准）。主要类型包括机械式（如波登管）、热传导式（皮拉尼计）、电离式（热阴极/冷阴极）、电容式（MEMS）等。选择时需考虑量程（如皮拉尼计适用于1Pa~10⁻⁴Pa）、精度（±1%~±15%）、气体类型兼容性（惰性气体需特殊校准）及环境振动影响。国际标准ISO3567定义了真空计的性能测试方法。皮拉尼计（热传导真空计）基于气体热传导率随压力变化的原理，通过加热电阻丝（通常为钨或铂）测量其温度变化。低压下气体分子少，热导率降低，电阻丝温度升高导致电阻变化。量程通常为1000Pa~10⁻¹Pa，精度±10%。需注意气体种类影响（氢气热导率高，读数偏低），且长期使用可能因污染导致零点漂移。现代皮拉尼计集成温度补偿算法，稳定性可达±1%/年。3.热阴极电离真空计（Bay皮拉尼真空计是一种用于测量真空压力的仪器。上海陶瓷真空计

热阴极电离真空计（Bayard-Alpert计）通过加热阴极（铱合金或氧化钇涂层钨丝）发射电子，电子撞击气体分子产生离子，离子电流与压力成正比。量程10⁻¹~10⁻⁸ Pa，精度±20%。需避免氧气环境导致阴极氧化，且高压（>1 Pa）下可能烧毁灯丝。改进型抑制规（Suppressor Gauge）通过电极设计减少X射线效应，可测至10⁻¹⁰ Pa。4. 冷阴极电离真空计（潘宁规）利用磁场约束放电产生离子，无需加热阴极。量程1~10⁻⁷ Pa，抗污染能力强，但启动压力需<1 Pa（需预抽真空）。放电不稳定可能导致读数波动±30%。逆磁控管设计提升灵敏度，用于半导体设备监控。其寿命可达10万小时，但强磁场可能干扰周围仪器。陕西mems皮拉尼真空计电容薄膜真空计的校准注意事项有？

旋片泵的旋片把转子、泵腔和两个端盖所围成的月牙形空间分隔成A、B、C三部分。当转子按箭头方向旋转时，与吸气口相通的空间A的容积逐渐增大，正处于吸气过程；而与排气口相通的空间C的容积逐渐缩小，正处于排气过程；居中的空间B的容积也逐渐减小，正处于压缩过程。由于空间A的容积逐渐增大（即膨胀），气体压强降低，泵的入口处外部气体压强大于空间A内的压强，因此将气体吸入。当空间A与吸气口隔绝时，即转至空间B的位置，气体开始被压缩，容积逐渐缩小，***与排气口相通。当被压缩气体超过排气压强时，排气阀被压缩气体推开，气体穿过油箱内的油层排至大气中。如果排出的气体通过气道而转入另一级（低真空级），由低真空级抽走，再经低真空级压缩后排至大气中，即组成了双级泵。

电容式薄膜真空计（MEMS规）通过金属薄膜在压力下的形变改变电容值，量程覆盖10⁵~10⁻⁴ Pa，精度±0.25%。温度系数低（<0.01%/℃），适合宽温域应用。硅微加工技术制造的MEMS规体积*硬币大小，响应时间<1 ms。需避免颗粒物损坏薄膜，且腐蚀性气体会侵蚀电极。**型号内置自校准功能，长期稳定性优异。6. 麦克劳真空计（**压缩式）***真空计，通过压缩已知体积气体至毛细管，测量液柱高度差计算压力。量程10~10⁻⁴ Pa，精度±1%，但***静态测量。**蒸汽毒性限制其使用，现多被石英振子规替代。其原理仍作为真空计量标准，用于校准其他真空计。改进型油压缩规使用扩散泵油替代**，安全性提升。真空计选型需要注意什么？

选择适合的真空计对确保测量精度和系统稳定运行至关重要。以下是选择真空计时需要考虑的关键因素：1. 测量范围真空度需求：根据应用需求选择适合的测量范围，如低真空、中真空、高真空或超高真空。量程匹配：确保真空计的量程覆盖所需测量范围。2. 精度与分辨率精度要求：选择满足精度要求的真空计，高精度应用需选择高精度型号。分辨率：确保分辨率足够高，能检测到微小压力变化。3. 响应时间快速响应：对压力变化敏感的应用需选择响应时间短的真空计。稳定性：在快速变化环境中，选择稳定性好的真空计。4. 环境适应性温度范围：确保真空计能在工作温度范围内正常运行。耐腐蚀性：在腐蚀性气体环境中，选择耐腐蚀材料制成的真空计。5. 气体类型气体种类：不同气体对真空计测量有影响，选择适合测量特定气体的真空计。气体清洁度：在污染气体环境中，选择不易受污染的真空计。真空计按原理可以分哪几类?广东mems真空计供应商

真空计按原理如何分类？上海陶瓷真空计

真空泵的工作原理真空泵通过机械或物理方式移除气体分子。旋片泵通过旋转叶片压缩气体排出；涡轮分子泵利用高速叶片撞击气体分子；低温泵则通过冷却表面吸附气体。干泵无油污染，适合洁净环境；扩散泵通过油蒸气喷射带走气体，需配合冷阱使用。选择泵需考虑极限真空、抽速和气体类型。4. 真空在半导体制造中的应用芯片制造需10⁻⁷ Pa超高真空环境。光刻机通过真空避免空气散射紫外线；离子注入在真空中加速掺杂原子；分子束外延（MBE）逐层生长晶体。真空减少杂质污染，确保纳米级精度。一台EUV光刻机包含数十个真空腔室，真空稳定性直接影响5nm以下制程良率。上海陶瓷真空计