效率刻度是进行定量分析的基础，新漫高纯锗系列软件须在能量刻度和核素识别之后才可以使用，在一般情况下使用152Eu进行效率刻度。并且探测器的效率是已知且固定的。保存好的刻度，可以对同一探测器所测试的数据使用。若有需求，可点击“清空数据”清空当前的刻度点。在进行拟合函数时，每相邻的两个窗口之间需要有重合的能量区间。在拟合设置中，可自定义效率刻度拐点但只能有一个拐点，可根据实际情况设置合适的顶点能量（一般P型探测器的能量拐点位150keV~180keV）。 高纯锗伽玛能谱仪，就选上海新漫传感科技有限公司，欢迎客户来电！便宜高纯锗伽玛能谱仪厂家直销
HPGe1600数字化谱仪功能模块包括能谱放大器、多道分析器和高压三个部分组成，用以接收并处理来自高纯锗探测器前放的信号。HPGe1600谱分析软件结合多道分析器，进行控制硬件系统、获取能谱图、对能谱进行解谱分析等功能。界面清晰、数据直观、操作简单。完整的ENSDF核素库，可自主添加、修改。高纯锗系列低本底铅室将屏蔽外部射线，降低本底计数率。铅屏蔽室主体铅厚10cm，内表面采用原子序数逐渐递减的多层内屏蔽材料。高纯锗探测器作为半导体探测器，用以测量γ射线，经过前置放大器，将信号传输给数字化谱仪。HPGe1600的低温获取系统为液氮系统或电与液氮冗余制冷，用以高纯锗探测器提供低温条件，保证其分辨率高、噪声低的特性。HPGe1600需定期补充液氮，需要配置液氮填充装置，液氮填充装置常采用自增压填充装置。嘉定新型高纯锗伽玛能谱仪厂家直销上海新漫传感科技有限公司高纯锗伽玛能谱仪值得用户放心。
除反康普顿谱仪之外，当前国内研究者在运用反符合技术的反宇宙射线的低本底高纯锗谱仪方面已经有了先例，并达到国际先进水平。早在2010年，就有学者用反符合和热中子屏蔽降低γ谱仪本底，实验表明，反符合屏蔽(塑料闪烁探测器)能大幅度降低μ子产生的本底，还能有效降低快中子与锗晶体和屏蔽材料非弹性散射引起的本底。系统采用反符合技术降低环境γ辐射和宇宙射线本底，50keV~2000keV积分本底采用反符合后明显降低，较通常物质屏蔽的谱仪探测灵敏度明显提高。
SIM-MAX反康普顿反宇宙射线本底高纯锗伽玛能谱仪（HPGe1620），采用自主研制的新型反符合探测器，可达到极低的本底水平和高性能的反康普顿散射水平，适用于极低水平及强放射性环境下低能端放射性核素活度测量，同时可针对不同的测量对象选择比较好测量模式。HPGe1620有以下功能特点：采用符合反符合技术；实现反康普顿测量、反宇宙射线测量或反康普顿反宇宙射线测量；提供ENSDF核素库，包含核素近400种；可定制多种测量模式：高效率测量、γ-γ、γ-β符合测量╺可选配液氮回凝制冷装置(液氮与电气致冷)、液氮制冷。HPGe1620创新技术与特点有：反符合探测器采用密度大且不易潮解的BGO晶体，利于优化仪器峰康比及积分本底性能；采用成熟的符合/反符合逻辑门电路以及合理的机械设计，不仅使仪器的性能更加稳定且实现了一台装置可进行多种功能测量；采用双通道多道分析器。上海新漫传感科技有限公司致力于提供高纯锗伽玛能谱仪，有想法的可以来电咨询！
上海新漫传感技术研究发展有限公司坚持“诚信为本、质量、价格合理”的经营理念，始终坚持“客户至上”的原则为广大客户提供的服务。并且对于售出的产品作出以下几点承诺：在产品质保期内，仪器如果出现问题，提供免费维修服务；以合理价格提供设备正常运行得备品备件，提供终身维修服务；在获得用户服务信息后，在4小时内给予答复；需要现场服务时，公司保证服务人员48小时内到达现场；特殊原因，由双方协商，按约定时间提供服务。上海新漫传感科技有限公司为您提供高纯锗伽玛能谱仪，有需要可以联系我司哦！深圳高纯锗伽玛能谱仪制造商
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新漫高纯锗伽玛能谱仪系列配套使用的数字化谱仪是由GBS公司生产的MCA527型号的数字多道分析器。MCA527是一款电池供电的高性能16k多道分析器。内置高压（为探测器的前置放大器提供所需电压）、主放大器、模拟数字转换器和数字信号处理系统。支持搭配多种探测器使用，16k的分辨能力的HPGe探测器。数字多道分析器的功能是测量探测器输出的模拟脉冲信号，以较好的精度检测其振幅及频率，对信号进行分析处理，转换为数字信号输出至计算机。便宜高纯锗伽玛能谱仪厂家直销
上海新漫传感科技有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在上海市等地区的仪器仪表中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，新漫供携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！
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