条形光源：方向性照明与灵活组合条形光源（BarLight）由直线排列的LED组成，结构简单紧凑，具有极强的方向性和灵活性。其价值在于能提供可控角度的定向照明。通过调整条形光相对于被测物和相机的位置、角度和数量，工程师可以精确地“雕刻”光线，以突出特定的特征：低角度照明（<30°）：光线近乎平行于表面，能戏剧性地凸显微小的高度差、划痕、凹陷、凸起、边缘或雕刻/印刷的字符（产生阴影效果），非常适合表面缺陷检测（划痕、压痕、异物）和字符识别；高角度照明（>45°）：提供更均匀的表面照明；多条形光组合：如两侧对称布置、交叉布置、四边布置等，可以消除单侧阴影、增强特定方向特征或实现覆盖。条形光源通常设计有不同长度、照射角度（如0°,30°,45°,60°,90°）、漫射选项（直射或带漫射罩）和颜色。其模块化特性允许根据检测需求灵活拼接和排布，成本相对较低。应用领域大，包括检测连续材料（纸张、薄膜、织物）的缺陷、产品边缘轮廓、包装密封性、大型物体（如车身面板）的表面质量等。配置时需仔细调整角度和位置以达到比较好效果。定制光源满足特殊检测需求。嘉兴条形光源面阵同轴
线阵扫描成像中的光源同步技术线阵相机通过逐行扫描运动中的物体来构建完整图像，广泛应用于连续材料（纸张、薄膜、金属带材、印刷品）的在线高速检测。这种成像方式对光源提出了独特且严苛的要求：高瞬时亮度和严格的同步控制。重要挑战在于，为了在高速运动（物体移动和相机行扫）下获得清晰、无运动模糊的图像，每行像素的曝光时间必须极短（微秒级）。这就要求光源能在极短的瞬间（与相机行频同步）爆发出超高亮度（远高于连续照明模式）来“冻结”运动。因此，高频、高亮度、精确可控的频闪（Strobe）光源成为线阵扫描系统的标配。LED光源因其快速响应特性（微秒级开关）成为优先。系统需要精确的触发与同步机制：通常由编码器（测量物位置置/速度）或外部传感器发出触发信号，光源控制器据此精确控制频闪的起始时刻、持续时长（脉宽）和强度，确保闪光脉冲恰好覆盖相机单行或多行曝光的时间窗口，并与物体的运动位置严格同步。光源的均匀性（沿扫描方向的线光源均匀性）和稳定性（避免亮度波动）也至关重要，直接影响图像质量和检测一致性。合理设计线光源的形状（细长条形）、长度（覆盖扫描宽度）、照射角度以及与物体的距离，是实现高效、可靠线阵检测的关键环节。温州高亮大功率环形光源多方向无影环形点光源用于局部重点区域的照明。
光源均匀性：概念、重要性及评估方法光源均匀性是衡量照明场光强分布一致性（均匀程度）的关键指标，对机器视觉检测精度至关重要，尤其在进行定量测量（如尺寸、色度）或大面积检测时。不均匀照明会导致图像不同区域亮度差异：过亮区域可能饱和丢失细节，过暗区域信噪比差难以分析，这种亮度梯度会被误判为物体本身的特征变化（如厚度不均、颜色渐变），严重影响检测结果的一致性和可靠性。均匀性通常定义为：Uniformity=[1-(Max-Min)/(Max+Min)]*100%，其中Max和Min是测量区域内多个采样点的亮度值。理想值为100%，工业应用中通常要求>80%甚至>90%。评估均匀性需要使用光强计或经校准的参考相机，在设定的工作距离下，在有效照明区域内按网格（如5x5或9x9）测量多个点的亮度值，然后计算。影响均匀性的因素众多：LED个体的亮度/色温差异、排列密度、光学设计（透镜、漫射板）的质量与老化、供电稳定性、结构遮挡、距离变化等。改善均匀性的方法包括：选用高质均光板（如乳白亚克力、匀光膜）、优化LED排布（增加密度、交错排列）、采用积分球原理（穹顶光）、精确控制光源距离、定期校准维护。在系统设计阶段就必须将均匀性作为重要参数进行验证和优化。
同轴漫射光源（DomeLight）：解决高反光表面的利器面对具有镜面或高度反光表面（如金属、抛光塑料、镀层、玻璃、光滑芯片）的物体时，传统的直接照明会产生强烈的眩光（HotSpot），淹没关键特征信息。同轴漫射光源，常被称为穹顶光（DomeLight），是解决这一挑战的有效方案。其重要设计是一个半球形的漫射内腔，内壁密布LED。光线经半球内壁的多次漫反射后，形成来自四面八方的、极其柔和且均匀的漫射光照射到被测物表面。这种照明方式的精髓在于：它将点光源或小范围光源扩展为一个大面积的、近乎理想的“面光源”，突出减小了物体表面法线方向微小变化引起的光强剧烈波动。结果是，即使是高度反光的表面，也能呈现均匀的灰阶，有效抑制眩光，同时清晰地显现出表面细微的纹理变化、划痕、凹坑、异物或字符，而不会被强烈的反射光斑掩盖。穹顶光特别适用于检查金属加工件（车削、铣削、冲压）、光滑注塑件、电子元件（芯片、连接器）、镜片、珠宝等。选择时需关注穹顶尺寸（匹配视场和工作距离）、开口大小、漫射材料均匀性以及光源亮度。其缺点是结构相对较大，可能占用较多空间。方形光源覆盖方形视场区域。
传统的彩色（RGB）机器视觉基于人眼三色原理，而多光谱（Multispectral）和高光谱（Hyperspectral）成像则通过获取物体在数十至数百个连续窄波段下的图像，揭示更丰富的光谱指纹信息。这对光源提出了特殊要求：宽光谱覆盖：光源需要提供足够强度且均匀的照明，覆盖从紫外、可见光到近红外（UV-VIS-NIR，如350-1000nm或更宽）的宽范围。常用高亮度卤钨灯（稳定连续光谱）或特定组合的LED阵列（覆盖关键波段）。光谱稳定性：光源的光谱输出必须高度稳定，避免漂移影响分析结果。卤钨灯需恒流供电，LED需精确控温控流。均匀性要求极高：不仅是空间均匀性，光谱均匀性（不同位置光谱成分一致）同样关键，否则会导致光谱数据失真。可能需要积分球匀光或精密光学设计。照明方式适配：根据应用（反射、透射、荧光）选择前向照明（如环形光、穹顶光）、背光或特定角度照明。高光谱光源常用于：材料分类与鉴别（塑料分选、矿物分析）；化学成分检测（农产品糖度、水分、成熟度；药品有效成分）；生物医学应用（组织病理、细胞分析）；精细农业（作物健康监测）；环境监测；防伪等。光源的性能（亮度、稳定性、均匀性、光谱范围）是获得高质量光谱数据立方体并进行有效分析的前提。外环光源与镜头同轴安装。河南环形低角度光源平行面
频闪光源用于高速运动捕捉。嘉兴条形光源面阵同轴
光源在半导体与电子制造业的关键应用半导体和电子制造业（SMT,PCB组装，芯片封装）是机器视觉应用只密集、要求只严苛的领域之一，光源在其中解决诸多关键检测难题：焊点检测（AOI-AutomatedOpticalInspection）：需要多角度照明（如环形光不同角度、穹顶光）揭示焊锡的光泽、形状、润湿角、桥接、虚焊等特征。特定波长（如蓝光）对微小缺陷敏感。元件存在/缺失、极性、错件：通用环形光、同轴光提供清晰整体图像。引线键合（WireBonding）：高倍显微下，点光源/光纤照明精细照亮微小焊点与金线，查断线、弧度、位置偏移。晶圆（Wafer）检测：表面缺陷（划痕、颗粒、沾污）：高均匀性明场（同轴光、穹顶光）或暗场照明（低角度光突显微小凸起）；图案（Pattern）对准/缺陷：高分辨率同轴光或特定波长照明；薄膜厚度测量：利用干涉或光谱反射，需要特定波长光源。PCB缺陷（断路、短路、蚀刻不良）：高分辨率背光查线路通断、线宽；表面照明查阻焊、字符、污染。BGA/CSP球栅阵列：X光更常用，但光学上可用特殊角度照明观察边缘球。小型化趋势：推动微型、高亮度、高均匀性光源（如微型环形光、同轴光）发展。光源的稳定性、均匀性、波长精确性和可控性对微电子检测至关重要。嘉兴条形光源面阵同轴
