去离子水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 产品名称
  • 去离子水
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 用途类别
  • 标准品
  • 产品性状
  • 液态
  • 化学式
  • H2O
  • 相对分子质量
  • 18
  • 有效成分含量
  • 100
  • 执行质量标准
  • GB/T11446.1-2013
  • 安全性及措施
  • 无毒无腐蚀性
  • 产品颜色
  • 无色
  • 包装规格
  • 25000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 产地
  • 江苏
去离子水企业商机

样品采集与处理 对于纯化水样品,要使用无菌的采样容器进行采集。采样容器要经过严格的清洗和灭菌处理,以防止引入外源性的热源物质。例如,可以采用高压蒸汽灭菌的方式对采样瓶进行灭菌。 采集后的样品如果不能及时检测,要妥善保存,一般建议在低温下保存,但要避免冷冻,因为冷冻可能会导致样品中的成分发生变化或者内素聚集,影响检测结果。孵育结束后,将试管从恒温箱中取出,小心地垂直放置在一个平稳的平面上,然后在良好的光线下观察试管内溶液的状态。如果溶液形成坚实的凝胶,且倾斜试管时凝胶不流动,判定为阳性,说明样品中含有内素;如果溶液仍然为液体,则判定为阴性,表明样品中内素含量低于检测限。在生物技术的基因芯片实验中,去离子水可保障实验准确性。上海去离子水配方设计

上海去离子水配方设计,去离子水

制药行业:对于制药行业的纯化水,TOC 含量要求更为严格。一般要求纯化水的 TOC 含量不超过 500μg/L,注射用水的 TOC 含量不超过 500μg/L(中国药典规定)。这是因为在药品生产过程中,即使微量的有机碳化合物也可能与药物成分发生反应,影响药品质量和安全性,或者作为微生物生长的营养源,导致药品污染。 电子工业(半导体制造等):在电子工业中,特别是半导体制造,超纯水的 TOC 含量通常要求低于 1 - 10μg/L。这是由于在半导体制造过程中,即使极微量的有机碳杂质也可能吸附在芯片表面,影响芯片的性能和质量,如导致芯片短路、光刻精度下降等问题。 实验室分析(高精度实验):在高精度化学分析和生命科学研究等实验室用途中,TOC 含量一般要求低于 10 - 100μg/L。例如,在液相色谱 - 质谱联用(LC - MS)等高精度分析实验中,低 TOC 含量的水可以避免在分析过程中产生额外的峰,确保实验结果的准确性和重复性。常见的去离子水作用去离子水在制药行业的水针剂生产中,保障药品质量与安全。

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原理:利用水和热源物质(主要是细菌内素等)沸点的差异来分离。水在标准大气压下沸点是 100℃,而内素等热源物质通常是一些大分子有机化合物,其沸点相对较高,在水沸腾汽化后,蒸汽中基本不含有热源物质,将蒸汽冷却凝结得到的蒸馏水热源含量就会降低。 操作要点:需要使用高质量的蒸馏设备,例如采用石英材质的蒸馏容器,因为石英具有良好的化学稳定性和热稳定性,能减少在蒸馏过程中可能引入的杂质。同时,要控制好蒸馏速度,避免液体暴沸。可以添加一些防暴沸的材料,如沸石,并且要确保整个蒸馏系统的密封性,防止外界的污染源进入。在蒸馏过程中,还可以进行多次蒸馏来进一步降低热源含量,例如二次蒸馏或三次蒸馏,每一次蒸馏都能去除一部分残留的热源物质。

紫外线氧化 - 非色散红外吸收法 仪器与试剂准备 同样需要总有机碳分析仪,但氧化方式为紫外线氧化。仪器需要配备很度紫外线灯,波长一般在 185 - 254nm 之间。准备用于校准的标准溶液,校准方法与燃烧氧化法类似。同时,要检查仪器的紫外线灯强度是否符合要求,因为紫外线强度会直接影响有机碳的氧化效率。 样品处理与操作 水样采集和预处理步骤与燃烧氧化法基本相同。将处理后的水样注入仪器的反应室,在紫外线照射下,水中的有机碳被氧化为二氧化碳。然后通过非色散红外吸收检测器检测二氧化碳的量,进而计算 TOC 含量。这种方法相对温和,对于一些对温度敏感的水样或者含有易挥发有机物质的水样比较适用,因为它避免了高温燃烧过程可能导致的有机物质挥发损失。去离子水的折射率相对稳定,利于光学相关实验与测量。

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制药行业 在制药行业,对于注射用水和纯化水,TOC 含量要求极为严格。因为有机碳杂质可能会影响药品质量和安全性。例如,在注射剂的生产中,水中过高的 TOC 含量可能会与药物成分发生反应,或者作为微生物生长的营养源,引发药品污染。所以,制药行业通常要求注射用水的 TOC 含量不超过 500μg/L,纯化水的 TOC 含量不超过 5mg/L。这些严格的标准是为了确保药品的纯度和稳定性,符合药品生产质量管理规范(GMP)的要求。 电子工业(半导体制造等) 半导体制造过程对纯度要求极高,水是半导体制造过程中清洗和蚀刻等步骤的关键材料。即使微量的有机碳杂质也可能导致芯片缺陷。例如,在光刻过程中,水中的有机碳可能会吸附在硅片表面,影响光刻精度。因此,电子工业中使用的超纯水要求 TOC 含量一般低于 1 - 10μg/L,以满足高精度芯片制造的需要。去离子水在制药行业的注射用水制备中有重要的前置处理作用。常见的去离子水作用

其在储存过程中需避免与空气、灰尘等接触导致离子污染。上海去离子水配方设计

动态浊度法 原理:内素与鲎试剂反应会一系列酶反应,会导致反应体系中产生凝固蛋白,使溶液的浊度增加。浊度的增加与内素的浓度在一定范围内呈线性关系,通过检测溶液浊度随时间的变化,可以定量地测定内素的含量。 操作步骤:复溶鲎试剂后,将处理后的纯水样品和复溶后的鲎试剂加入到动态浊度法检测仪的反应池中。仪器在恒温 37℃条件下自动检测反应体系的浊度变化,并根据预先设定的标准曲线来计算内素的含量。如果检测结果显示内素含量低于设定的安全标准(如制药行业注射用水要求内素含量低于 0.25 EU/mL),则可以认为热源物质已被有效去除。上海去离子水配方设计

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