芯片制造过程中,良率波动若不能及时识别,可能导致整批产品报废。YMS系统通过自动采集ETS88、93k、J750、Chroma、STS8200等Tester平台输出的stdf、csv、xls、spd、jdf、log、zip、txt等多格式测试数据,完成重复性检测、缺失值识别与异常过滤,确保分析基础可靠。标准化数据库支持从时间维度追踪良率趋势,或聚焦晶圆特定区域对比缺陷分布,快速定位工艺异常点。结合WAT、CP与FT参数的联动分析,可区分是设计问题还是制程偏差,大幅缩短根因排查周期。SYL与SBL的自动计算与卡控机制嵌入关键控制节点,实现预防性质量干预。灵活报表工具按模板生成日报、周报、月报,并导出为PPT、Excel或PDF,提升跨部门决策效率。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来,持续优化YMS系统,助力芯片制造企业构建自主可控的质量管理能力。参数漂移趋势在PAT分析中清晰呈现,实现早期风险预警。山西自动化MappingOverInk处理系统

当封测厂同时运行ETS88、J750、93k、Chroma、STS8200等十余种Tester设备时,不同平台输出的stdf、csv、log、jdf、spd、txt等格式数据往往难以统一处理。YMS系统通过内置的多协议解析引擎,自动识别并适配各类测试平台的数据结构,将异构原始数据转换为标准化内部格式,消除因设备差异导致的信息割裂。模块化接口设计确保新增设备可快速接入,无需重构系统架构。这种“即插即用”的兼容能力,使企业能集中管理全产线测试数据,避免为不同平台维护多套分析流程。数据采集的稳定性与实时性由此得到保障,为后续良率分析奠定一致基础。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来,持续优化YMS的平台兼容性,支撑客户在复杂设备环境中实现高效数据治理。福建Mapping Inkless上海伟诺信息科技GDBN功能,通过各种算法可以帮助客户快速剔除芯片上异常风险芯片。

晶圆级良率监控要求系统能处理高密度、高维度的测试数据流。YMS方案自动对接ASL1000、TR6850、MS7000、SineTest等设备,实时汇聚原始测试结果并完成结构化清洗,消除人工干预带来的延迟与误差。系统以图表形式直观呈现晶圆热力图,清晰展示边缘、中心或象限区域的良率差异,辅助工程师判断光刻、刻蚀或沉积环节的均匀性问题。当某批次CP良率异常时,可联动WAT参数变化追溯前道工艺漂移,实现从前端到后端的全链路追溯。多周期报表自动生成并支持多格式导出,满足从产线到高管的信息消费习惯。这种深度可视化与智能关联分析能力,使良率管理从经验驱动转向数据驱动。上海伟诺信息科技有限公司凭借对半导体制造流程的理解,将YMS打造为晶圆厂提质增效的有效工具。
半导体设计公司对良率分析的颗粒度要求极高,需兼顾芯片级精度与跨项目可比性。YMS系统支持接入Juno、AMIDA、CTA8280、T861、SineTest等平台产生的多格式测试数据,完成统一解析与结构化存储,确保从晶圆到单颗芯片的数据链完整。系统不仅实现时间趋势与区域对比分析,还能通过WAT参数漂移预警潜在设计风险,辅助早期迭代优化。SYL与SBL的自动计算功能,为良率目标达成提供量化依据;灵活报表引擎则支持按项目、产品线或客户维度生成分析简报,并导出为PPT、Excel或PDF,适配不同汇报场景。这种深度集成的能力,使良率管理从被动响应转向主动预防。上海伟诺信息科技有限公司以“以信为本,以质取胜”为准则,持续打磨YMS的功能完整性与行业适配性。AECQ合规性内嵌于Mapping Over Ink处理的算法判定逻辑中,确保车规级标准严格执行。
Mapping Over Ink是一套在晶圆测试(CP)后,对电性测试图谱进行智能分析、处理,并直接驱动探针台对特定芯片进行喷墨打点的自动化系统。它将各种分析算法(如ZPAT, GDBN)得出的“失效判定”转化为物理世界中的行动——将不良品标记出来,使其在后续封装中被剔除。其重点是预见性地剔除所有潜在缺陷芯片,而不仅是那些已经明确失效的。也是提升芯片零缺陷的一种重要方式。
上海伟诺信息科技有限公司作为半导体测试领域的解决方案供应商,致力于为国内外半导体设计公司与晶圆测试厂提供一站式的 Mapping Over Ink 整体解决方案。我们的平台集成了业界前沿、专业的数据分析与处理模块,旨在通过多重维度的智能筛选,构筑起一道安全的质量防线,有效地提升用户的晶圆测试质量与产品可靠性。 Mapping Over Ink处理支持txt与原始Probe格式双向转换,满足多样化数据需求。山西自动化MappingOverInk处理系统
失效Die的空间分布特征是判断工艺问题的关键依据,指导制程参数优化。山西自动化MappingOverInk处理系统
在半导体制造中,晶圆厂制程的任何微小变动,都可能引起良率与可靠性的风险。其中,一个尤为典型的系统性失效模式,便源于光刻环节的Reticle(光罩)。当Reticle本身存在污染、划伤或设计瑕疵时,或当光刻机在步进重复曝光过程中出现参数漂移(如焦距不准、曝光能量不均)时。这些因Reticle问题而产生的特定区域内的芯片,实质上构成了一个高风险的“潜伏失效群体”。若不能在测试阶段被精确识别并剔除,将直接流向客户端,对产品的长期可靠性与品牌声誉构成严重威胁。识别并处理这类与Reticle强相关的潜在缺陷,是现代高可靠性质量管理中一项极具挑战性的关键任务。
上海伟诺信息科技有限公司在Mapping Over Ink功能中提供了一个Shot Mapping Ink方案,可以将整个Mapping按Reticle大小或是自定义大小的方格,根据设定的算法将整个Shot进行Ink, 从而去除掉因光刻环节的Reticle引起的潜在性失效芯片。通过Shot Mapping Ink方案,用户能够将质量管控的关口从“筛查单个失效芯片”前移至“拦截整个失效风险区域”。这尤其适用于对可靠性要求极严苛的车规、工规等产品,它能极大程度地降低因光刻制程偶发问题导致的批次性可靠性风险,为客户构建起一道应对系统性缺陷的坚固防线。 山西自动化MappingOverInk处理系统
上海伟诺信息科技有限公司在同行业领域中,一直处在一个不断锐意进取,不断制造创新的市场高度,多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准,在上海市等地区的数码、电脑中始终保持良好的商业口碑,成绩让我们喜悦,但不会让我们止步,残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志,和谐温馨的工作环境,富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新,勇于进取的无限潜力,携手大家一起走向共同辉煌的未来,回首过去,我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜,相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围,我们更要明确自己的不足,做好迎接新挑战的准备,要不畏困难,激流勇进,以一个更崭新的精神面貌迎接大家,共同走向辉煌回来!