中性受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 228特别适用于PP、PE、α烯烃共聚物及其与EPR、EPDM、ERR、PE、EVA、EAA、EVOH的共混物、填充PP等材料。它也可用于弹性体(如EPDM、SBS、SIS、SEBS),苯乙烯和α-甲基苯乙烯类材料(ABS、SAN、AES、ASA、IPS、SMA),以及这些聚合物与其它材料的共混物或合金,粘合剂,热熔胶,软质和硬质PVC,聚氨酯、聚酰胺(如PA6、PA66PA12)、均聚和共聚POM、PPE、PET、PBT共混物、PMMA浇铸片材、热塑性树脂及UPE、PET、PA纤维等。 上海璞展实业有限公司光稳定剂服务值得放心。福建聚烯烃用光稳定剂CHIMASSORB 2020

YASORB UV-2908 美国氰特(CYTEC)紫外线吸收剂 紫外线吸收剂YASORB UV-2908是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、高效的抗紫外线自由基捕获剂,抗气熏褪色,低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系。 理化数据: 产品形态 白色粉末 熔点 60℃ 分子量 475 相对密度 1.07(25℃) 热失重温度T-10% 291℃ 功能 : 1、高效的自由基捕获剂,具有很好的光稳定性能,同时还具有抗氧剂性能。 2、抗NOX气熏褪色,PH值中性。 3、与受阻胺的协同增效作用。 4、对PP和阻燃聚烯烃体系的高效稳定性。浙江低碱性光稳定剂ADKSTAB LA-46上海璞展实业有限公司是一家专业提供光稳定剂的公司,有想法的不要错过哦!

薄膜纤维用低碱性受阻胺光稳定剂Chiguard 228 中性受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 228是一种非聚合型高分子量的受阻胺类类光稳定剂。其相较于其他受阻胺类光稳定剂优点明显,可以增强着色聚烯烃制品的色度。由于它的大分子结构,它适用于所有要求低挥发性和高抗迁移性的领域。 由于一般受阻胺类光稳定剂偏碱性,在酸性体系(如溴系阻燃体系中)会产生相互对抗作用。则Chiguard 228是偏中性的紫外线吸收剂,解决了这一点。 中性受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 228还是一种有效的抗氧剂,可较好改善聚烯烃的长效热稳定性。
其次是耐溶剂的萃取,耐水萃取对HALS很常见(如汽车漆用途),因此市面上已有很多产品来对应。但有些需要耐候的涂料或塑料制品会长期接触油性溶剂,大部分的HALS都容易被溶剂萃取,而Chiguard 1152 则是一种反应型(带-OH基)的低碱性HALS,可以抵抗溶剂的冲刷而不被萃取出来,耐候效果持久。 以上就是我们对耐候添加剂选择的一些基本认识,实际应用会比较复杂,有时候你需要取舍,有时候你需要兼顾,还有时候则需要知道“原来还有这样的产品”,希望同大家一起探讨,一起解决问题,一起成长。光稳定剂,就选上海璞展实业有限公司,有需求可以来电光稳定剂!

涂料用受阻胺光稳定剂CHIGUARD 100 紫外光稳定剂Chiguard 100G与在‘建议用量’一栏里所建议的紫外光吸收剂配合使用后,会使涂料 的耐候性有明显的提高. 协同作用会使涂料更好地发挥作用, 对于失光、开裂、起 泡、脱落和变色均有很好的防止作用. 紫外光稳定剂Chiguard 100G亦可防止在高温烘烤过程中所引 起的树脂黄变。 紫外光稳定剂Chiguard 100G可加于双层体系汽车漆中的中涂和罩光漆中,根据我们的经验,将光稳定 剂加于***上一层涂层中能起到的保护效果。 紫外光稳定剂Chiguard 100G对于粉末涂料,能起到使粉末涂料摩擦带电的作用, 该性能可带来如下 好处: · 提高摩擦静电喷涂中上粉率,减少粉末的回收量 · 提高粉末涂料和工件之间的附着力。 · 提高喷涂中对工件的‘包敷性’。 上海璞展实业有限公司是一家专业提供光稳定剂的公司,期待您的光临!浙江BASF光稳定剂Tinuvin 328
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Nylostab S-EED尼龙用多功能助剂 一种为尼龙量身定做的独特的多功能助剂,(与尼龙分子识别而相容)。 > 改善尼龙熔融加工性能在尼龙中添加Nylostab可以提高其熔融加工性 > 增强长期热稳定性和光稳定性,这种高度相容、持久有效的添加剂可以赋予尼龙极大地稳定作用,这是其他传统光稳定系统所不能提供的。将Nylostab S-EED与oxalanilide UV 吸收剂结合使用可以明显提高尼龙的抗UV能力。 > 增强可染性Nylostab S-EED因具有碱性基团及相互作用,在复合金属染料或非金属酸性染料的染色过程中可以增强染料亲和力。从 而使染色更稳定、经济、生态相容,可深度染色(S-EED)。 > 例如可以稳定尼龙的熔体压力、使加工过程平稳、纤维纺丝时减少断丝。容易操作作为一种结晶型化合物,S-EED在高分子熔融加工或聚合过程中,可以按传统喂料方法和定量给料技术应用加料。福建聚烯烃用光稳定剂CHIMASSORB 2020