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四氟化碳的应用不少以及使用场景于2000字四氟化碳，化学式为CF4，是一种无色、无味、无毒的气体，具有许多重要的应用和使用场景。以下将详细介绍四氟化碳的应用及使用场景。工业应用半导体制造：四氟化碳被多用于半导体制造中的化学气相沉积（CVD）和物理相沉积（PVD）过程中，用于制备薄膜和绝缘层。光刻：在半导体工业中，四氟化碳可用作光刻过程中的清洗剂，帮助去除光刻胶和残留物。等离子体刻蚀：四氟化碳可用于等离子体刻蚀过程中，用于制备微细结构和芯片。山西超纯四氟化碳气多少m3