企业商机
酯类基本参数
  • 品牌
  • 广州印田新材料有限公司
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 产品性状
  • 液态
酯类企业商机

己二酸二异丁酯(Diisobutyl adipate,简称 DIBA)的主要用途:1、增塑剂:己二酸二异丁酯是塑料和橡胶工业中常用的增塑剂,可增加聚合物的柔软性和延展性,应用于聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等各种塑料制品的制备。它还能改善制品的低温柔软性和耐光性,降低压缩变形。2、溶剂:由于其良好的溶解性,己二酸二异丁酯被用作多种有机溶剂,在化妆品、涂料、油墨、胶粘剂、清漆和香精等工业生产中得到较广的应用。3、其他应用:己二酸二异丁酯还可用于有机合成化学中的酯类有机溶剂,以及作为油墨的合成原料,有助于油墨的均匀分散和稳定性。此外,它还有一定的抗溶剂性和良好的耐候性,在涂料和油墨中可作为防水和耐候性增强剂。乙二醇丁醚醋酸酯BGA化学性质稳定,不易分解,但遇明火、高温或氧化剂可能燃烧。对苯二甲酸二甲酯DMT工艺

对苯二甲酸二甲酯DMT工艺,酯类

油酸甲酯(Methyl Oleate,简称MOA)是一种重要的有机化合物,属于脂肪酸甲酯类,具有多种工业和应用价值。化学名称:油酸甲酯(Methyl Oleate);分子式:C19H36O2;分子量:约296.49克/摩尔;CAS号:112-62-9;外观:无色至淡黄色油状液体;溶解性:不溶于水,但易溶于乙醇、乙氧基等有机溶剂。稳定性:在常温常压下性质稳定,但应避免与强氧化剂接触。闪点:通常大于110°C。密度:约0.87-0.9 g/cm³(20°C)。

油酸甲酯通常通过油酸与甲醇的酯化反应制得。这一反应在催化剂(如浓硫酸、对甲苯磺酸等)的存在下进行,通过加热回流使反应充分进行。反应结束后,经过中和、洗涤、干燥和减压蒸馏等步骤,即可得到纯度较高的油酸甲酯。 对苯二甲酸二甲酯DMT工艺草酸甲乙酯由于同时拥有烷基、烷氧基和羰基等活性基团,兼具对称性草酸酯和不对称酯的特性。

对苯二甲酸二甲酯DMT工艺,酯类

乙二醇丁醚醋酸酯的主要应用领域:1、涂料领域:用作乳胶漆的助聚结剂,对多种漆有优良溶解性能,较广应用于多彩涂料和乳液涂料中。也是金属、家具喷漆及保护性涂料的溶剂。2、印刷油墨领域:由于挥发速度慢,可作丝网印刷油墨和聚苯乙烯涂料印花釉的溶剂。3、清洁剂领域:在清洁产品中用作去污剂和清洁剂成分。4、化妆品领域:在化妆品和个人护理产品中,常被用作稀释剂和溶剂成分。5、医药领域:在某些药物中,可以作为溶剂或载体使用。6、其他领域:还可用于金属、玻璃等表面清洗剂配方及作为化学试剂。此外,在电子化学品制造中可作为光刻胶稀释剂,在纺织印染助剂中可提升染料上染率等。

乙二醇丁醚醋酸酯主要由乙二醇和丁醇在催化剂作用下醚化生成乙二醇丁醇醚,再与醋酸反应生成。反应温度通常控制在110-130℃,采用甲苯作为共沸剂移除生成的水分,反应转化率可达95%以上。精馏工序采用真空分馏塔,分离未反应的原料及副产物,终产品纯度可达99.5%以上。

乙二醇丁醚醋酸酯应该贮存于阴凉、通风、干燥处,按一般化学品运输。远离明火和高温热源,避免静电放电。避免与强氧化剂或其他化学物质混合。同城采用铁桶包装,每桶净重通常为190KGS或200KGS。 3-甲氧基乙酸丁酯(MBA)是一种无色透明液体,味苦,略有气味,密度为0.95~0.96 g/cm³(20℃)。

对苯二甲酸二甲酯DMT工艺,酯类

3-甲氧基醋酸丁酯(MBA)是一种重要的有机化合物。化学名称:3-甲氧基醋酸丁酯(MBA),也被称为醋酸(3-甲氧基丁基)酯、3-甲氧基丁基乙酸酯等。化学式:C7H14O3;分子量:146.184;CAS号:4435-53-4;外观:无色透明液体,味苦,略有气味。密度:约为0.956g/cm³(也有说法为0.947g/cm³或0.95~0.96g/cm³,具体数值可能因测试条件而异)。沸点:约为172~175.3°C(760mmHg下),也有说法为173°C。闪点:约为62°C(也有说法为61°C)。溶解性:能与多种有机溶剂混溶,如乙醇、乙氧基等。稳定性:在常温常压下性质稳定。草酸甲乙酯可与汽油、柴油混溶,提高燃烧效率,减少污染物排放。可溶于醇醚等溶剂,用于涂料、油墨等行业。对苯二甲酸二甲酯DMT工艺

二丙二醇甲醚醋酸酯DPMA低毒,密度约 0.977 g/cm³(25℃), 沸点约 209℃ ,闪点约 86℃ ,自燃温度约 285℃。对苯二甲酸二甲酯DMT工艺

3-甲氧基醋酸丁酯MBA气味低,溶解力好,具疏水性,符合当前环保潮流的产品。外观:无色透明液体;含量(%)≥99.5;密度/(kg/m3):0.95;沸点:172;水份%≤0.05;闪点(闭口杯)/℃:61℃;CAS号:4435-53-4;熔点:-80℃;挥发速率:75(Di-Et-Etherscale);折射率:1.408-1.410@20℃;水溶性:3%@20℃;粘度:0.71mPa*s@20℃。应用于电子及芯片行业1.光刻胶用的二次溶剂(微处理器),光刻胶树脂合成,光刻胶彩胶颜料液用溶剂。2.光刻胶(Photoresist)的稀释剂或剥离剂,帮助调节黏度并改善涂布均匀性。3.电子清洗剂:用于晶圆或显示面板制造中的精密清洗,去除残留光刻胶或颗粒。对苯二甲酸二甲酯DMT工艺

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  • 对苯二甲酸二甲酯DMT工艺,酯类
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