洁净室环境与管道清洁洁净室地面、墙面：去除表面的微尘（≥0.5μm 颗粒需控制在每立方英尺≤1 个），干冰清洗无二次扬尘（CO₂气体可带走粉尘），符合洁净室 “零微粒扩散” 要求。工艺管道（如高纯气体管道、真空管道）：去除管道内的氧化层、焊渣残留，避免气体输送时污染物脱落污染晶圆。酷尔森icestorm干冰清洗在半导体行业的**优势无残留污染：干冰（固态 CO₂）升华后变为气体，无液体、固体残留，彻底避免传统化学清洗（如 HF、SC1/SC2 洗液）带来的离子污染（Na⁺、K⁺等金属离子会导致芯片漏电）。无损保护精密部件：通过参数化控制（颗粒大小 3μm-5mm、压力 0.05-0.8MPa），可适配从纳米级光罩到毫米级模具的清洁需求，避免机械划伤或化学腐蚀（如铝焊盘耐腐蚀性差，无法用酸性清洗剂）。适配 “惰性环境” 需求：CO₂是惰性气体，不与半导体材料（硅、金属、陶瓷）反应，尤其适合光刻、沉积等 “禁化学物质” 的工艺环节。提升生产效率：支持在线清洁（如刻蚀腔体可在工艺间隙清洁，无需停机拆解），传统腔体清洗需 4-8 小时，干冰清洗可缩短至 30 分钟内，设备稼动率提升 20% 以上。酷尔森是干冰清洗技术的行业，其干冰清洗机利用低温干冰颗粒和压缩空气，无需化学溶剂或水。上海高效干冰清洗价目表
在半导体行业，生产环境（如 Class 1 级洁净室）和产品（晶圆、芯片、精密部件）对 “零污染、无损伤、超高洁净度” 的要求堪称工业领域**严苛标准之一。酷尔森icestorm干冰清洗凭借无残留、化学惰性、低温无损、适配精密场景等特性，成为解决半导体生产中 “微污染物去除、设备维护、产品良率提升” 的关键技术。其**应用场景覆盖晶圆制造、封装测试及设备维护全流程，具体如下：一、晶圆制造环节：从光刻到沉积 / 刻蚀的精密清洁晶圆（硅片、化合物半导体晶圆）是半导体的**基材，其表面及生产设备的洁净度直接决定芯片的良率（每片晶圆含数百个芯片，一个微米级杂质可能导致整片失效）。干冰清洗在以下关键工序中发挥不可替代的作用：1. 光刻掩模版（光罩）清洁清洁对象：光刻掩模版（表面镀铬层、石英基底）、光罩盒（Pod）。污染问题：光罩是光刻图案的 “母版”，表面若残留纳米级颗粒（≤0.1μm）、有机污染物（如光刻胶残渣）、金属离子，会导致光刻图案转移时出现缺陷（如线宽偏差、图形畸变），直接降低芯片良率。传统清洁（如兆声波清洗、化学湿法清洗）可能引入水分残留或划伤镀铬层（厚度*数十纳米）。重庆高效干冰清洗价目表酷尔森雪花清洗机采用液态二氧化碳作为清洗介质，通过喷枪与压缩空气混合，生成微米级干冰雪花颗粒。
ICEsonic干冰清洗机凭借其非研磨、无水、无化学残留的特性，在多个工业领域提供高效环保的清洁解决方案。以下是其**应用范围及典型场景分类整理如下：一、工业制造与模具清洁模具清洗适用模具类型：注塑模具、轮胎模具、橡胶模具、合金压铸模具、热/冷芯盒等。***污染物：树脂残留、脱模剂碳化物、油污、积碳，恢复模具表面光洁度。优势：在线清洗无需拆卸模具，避免机械损伤或化学腐蚀，减少停机时间80%以上。设备与生产线维护应用场景：清洁锻造工具、灌装系统、输送机及混合设备。去除塑料部件毛刺、清洗印刷机齿轮导轨的油墨堆积。清理烘炉、反应釜、换热器表面的聚氯乙烯树脂或焦垢。电力设施清洁对象：变压器（37KV以下带电作业）、绝缘子、配电柜、发电机定子/转子、涡轮机叶片。作用：***油污、碳氢化合物、锈迹，提升散热效率与设备可靠性，避免动平衡破坏。能源行业应用清洗锅炉、电容器、炉管灰垢，减少能量损失与维护成本。食品与制药行业食品加工设备清洁目标：烤箱残渣、传送带油渍、搅拌机胶状物、包装设备污染物。卫生优势：无需化学溶剂，可抑制沙门氏菌等病原体，符合食品安全标准。制药设备高效消毒反应釜、冷凝器及容器内壁，无二次污染风险。
生产制造环节边框溢胶清理：环晟新能源**装置解决光伏组件边框溢胶问题，替代传统人工刮擦或化学溶剂，避免组件表面损伤，清理效率提升50%以上；电池板预清洗：在太阳能电池板封装前去除油脂、尘埃，提升光吸收效率，应用于半导体级清洁工艺。电站运维环节缺水地区积灰治理：西北风沙区（如敦煌电站）：干冰微爆清洗配合抗静电涂层，沙尘附着率降低76%，单次清洗后30日内发电量提升27%；吉林某50MW电站：移动式干冰清洗使积灰6-14天的组件功率恢复3.14%-6.71%，单位清洗成本*0.028万元/MW；分布式屋顶光伏：去除树叶、花粉等混合污染物，改善散热条件，避免组件高温效率衰减（温度每升1℃，效率降0.3%-0.5%）。智能化清洗系统西安热工研究院的无人机系统：集成污渍定位与干冰喷射，适用于荒漠电站，节水率100%，日均处理量80MW；中山鑫隆的清洗车：柔性毛刷+干冰+真空吸附，作业效率300 kW/h，适用于工商业大型电站。酷尔森的干冰清洗凭借零水耗、非损伤、高效减排三大**优势，已成为光伏行业解决生产清洁与运维痛点的关键技术：生产端：环晟新能源等企业推动边框去胶技术标准化，提升组件良率；运维端：在缺水多尘地区实现发电量提升27%，成本*为水洗的11.6%-16.8%；干冰清洗技术凭借其无残留、低温无损、环保高效等特性，在锂电池行业的生产、组装、维护中展现出优势。
封装模具与载板清洁清洁对象：塑封模具（型腔、浇道）、晶圆载板（Wafer Carrier）。污染问题：塑封过程中，环氧树脂（封装材料）会在模具型腔残留、固化，导致封装体出现飞边、缺胶；载板表面若有焊锡残渣、粉尘，会影响晶圆定位精度。干冰清洗作用：干冰的低温使残留环氧树脂脆化，轻松剥离模具死角（如型腔拐角、浇道狭窄处）的固化物，无需使用脱模剂（传统脱模剂可能污染芯片）。清洁载板表面的微小焊锡颗粒和粉尘，保障晶圆在测试或封装时的定位精度（误差需控制在 ±5μm 内）。半导体设备与洁净室维护半导体生产依赖大量精密设备（如光刻机、量测仪器）和 Class 1 级洁净室，其清洁直接影响生产稳定性：1. 精密设备部件清洁光刻机光学系统：清洁镜头表面的油污、粉尘（镜头精度达纳米级，任何污染都会影响曝光精度），酷尔森的干冰颗粒（1μm 以下）可在不接触镜头的情况下去除污染物，避免划伤镀膜层。自动化机械臂：清洁机械臂抓手（End Effector）表面的晶圆残留颗粒（如硅粉），避免对下一片晶圆造成二次污染。量测仪器探头：如膜厚仪、椭偏仪的检测探头，去除表面的有机污染物，保障量测数据的准确性（误差需≤0.1nm）。使用液态二氧化碳直接清洗，其消耗量约为传统干冰颗粒清洗的三分之一，降低了运营成本。贵州防爆干冰清洗价目表
酷尔森干冰清洗用于在线清洗烤箱、烤盘、输送带、搅拌罐等设备上的糖分、油污和积碳。上海高效干冰清洗价目表
极片辊压、分切后的表面清洁清洁对象：辊压后的极片表面、分切后的极片边缘。污染问题：辊压过程中极片表面可能残留微量电解液（预涂时）或粉尘；分切（激光分切或机械分切）后边缘易产生毛刺、粉末，若残留会导致电芯叠片 / 卷绕时短路风险升**冰清洗作用：以低压力（0.1-0.3MPa）喷射干冰，可精细去除极片表面附着的粉尘和细小毛刺，且不损伤极片（极片厚度通常* 10-100μm），避免传统毛刷清洁可能产生的二次污染或机械损伤。电芯组装环节的清洁电芯组装（叠片 / 卷绕、封装、注液前）对环境洁净度要求极高，任何杂质（如金属碎屑、粉尘、油污）都可能引发微短路或热失控。1. 叠片 / 卷绕工装与夹具清洁清洁对象：叠片台、定位夹具、卷绕机导辊、隔膜导轮等。污染问题：极片搬运过程中，工装表面易附着极片粉末（如石墨、金属氧化物）、隔膜碎屑或油污，导致极片定位偏移、隔膜褶皱，影响电芯对齐度。酷尔森icestorm干冰清洗作用：非接触式清洁，可深入夹具缝隙和导轮凹槽，彻底去除粉末和油污，且干冰升华后无残留，无需担心污染物落入电芯内部，保障叠片 / 卷绕精度。上海高效干冰清洗价目表
