研究所将晶圆键合技术与集成电路设计领域的需求相结合，探索其在先进封装中的应用可能。在与相关团队的合作中，科研人员分析键合工艺对芯片互连性能的影响，对比不同键合材料在导电性、导热性方面的表现。利用微纳加工平台的精密布线技术，可在键合后的晶圆上实现更精细的电路连接，为提升集成电路的集成度提供支持。目前，在小尺寸芯片的堆叠键合实验中，已实现较高的对准精度，信号传输效率较传统封装方式有一定改善。这些研究为键合技术在集成电路领域的应用拓展了思路，也体现了研究所跨领域技术整合的能力。晶圆键合为植入式医疗电子提供长效生物界面封装。上海阳极晶圆键合加工厂
针对晶圆键合过程中的气泡缺陷问题，科研团队开展了系统研究，分析气泡产生的原因与分布规律。通过高速摄像技术观察键合过程中气泡的形成与演变，发现气泡的产生与表面粗糙度、压力分布、气体残留等因素相关。基于这些发现，团队优化了键合前的表面处理工艺与键合过程中的压力施加方式，在实验中有效减少了气泡的数量与尺寸。在 6 英寸晶圆的键合中，气泡率较之前降低了一定比例，明显提升了键合质量的稳定性。这项研究解决了晶圆键合中的一个常见工艺难题，为提升技术成熟度做出了贡献。江苏热压晶圆键合技术晶圆键合推动高效水处理微等离子体发生器的电极结构创新。
在晶圆键合技术的设备适配性研究中，科研团队分析现有中试设备对不同键合工艺的兼容能力，提出设备改造的合理化建议。针对部分设备在温度均匀性、压力控制精度上的不足，团队与设备研发部门合作，开发了相应的辅助装置，提升了设备对先进键合工艺的支持能力。例如，为某型号键合机加装的温度补偿模块，使晶圆表面的温度偏差控制在更小范围内，提升了键合的均匀性。这些工作不仅改善了现有设备的性能，也为未来键合设备的选型与定制提供了参考，体现了研究所对科研条件建设的重视。
在异质材料晶圆键合的研究中，该研究所关注宽禁带半导体与其他材料的界面特性。针对氮化镓与硅材料的键合，团队通过设计过渡层结构，缓解两种材料热膨胀系数差异带来的界面应力。利用材料外延平台的表征设备，可观察过渡层在键合过程中的微观变化，分析其对界面结合强度的影响。科研人员发现，合理的过渡层设计能在一定程度上提升键合的稳定性，减少后期器件使用过程中的界面失效风险。目前，相关研究已应用于部分中试器件的制备，为异质集成器件的开发提供了技术支持，也为拓宽晶圆键合的材料适用范围积累了经验。晶圆键合实现嗅觉-神经信号转换系统的仿生多模态集成。
围绕晶圆键合技术的标准化建设，该研究所联合行业内行家开展相关研究。作为中国有色金属学会宽禁带半导体专业委员会倚靠单位，其团队参与了多项行业标准的研讨，针对晶圆键合的术语定义、测试方法等提出建议。在自身研究实践中，团队总结了不同材料组合、不同尺寸晶圆的键合工艺参数范围，形成了一套内部技术规范，为科研人员提供参考。同时，通过与其他科研机构的合作交流，分享键合过程中的质量控制经验，推动行业内工艺水平的协同提升。这些工作有助于规范晶圆键合技术的应用，促进其在半导体产业中的有序发展。晶圆键合在量子计算领域实现超导电路的极低温可靠集成。浙江真空晶圆键合代工
晶圆键合为柔性电子器件提供刚柔结构转印技术路径。上海阳极晶圆键合加工厂
研究所利用多平台协同优势，对晶圆键合后的器件可靠性进行多维评估。在环境测试平台中，键合后的器件需经受高低温循环、湿度老化等一系列可靠性试验，以检验界面结合的长期稳定性。科研人员通过监测试验过程中器件电学性能的变化，分析键合工艺对器件寿命的影响。在针对 IGZO 薄膜晶体管的测试中，经过优化的键合工艺使器件在高温高湿环境下的性能衰减速率有所降低，显示出较好的可靠性。这些数据不仅验证了键合工艺的实用性，也为进一步优化工艺参数提供了方向，体现了研究所对技术细节的严谨把控。上海阳极晶圆键合加工厂
