Dequest2010产品特点 •耐H2O2氧化,在H2O2溶液中保持良好的螯合能力 •符合国际上食品安全的要求,拥有FDA及欧盟相关的许可,可应用于食品饮料行业。 •有专门开发的低氯含量(D2010LC)产品,可用于各种精密要求的行业,如微电子,半导体行业。 •适合酸性配方 Dequest2066产品特点: •耐H2O2氧化,在H2O2溶液中保持良好的螯合能力 •对H2O2有很好的稳定效果 •缺点:颜色较深,氯离子含量高。 •适用于工业洗涤,纺织行业。 •适用于中~碱性配方。都在用的水处理剂-双氧水稳定剂望界!DEQUEST系列双氧水稳定剂DEQUEST 2010
双氧水稳定剂-伊塔玛DEQUEST 2010螯合作用: ·分子结构中存在多个膦酸配位基团,使得Dequest®系列产品有良好的螯合功能。 ·膦酸分子与多种重金属,过渡金属结合,能够形成稳定的,水溶性复合物 ·对各种金属离子有很好的螯合能力(Ca,Mg,Fe,Cu,Mn,Al,…) Dequest®产品与常见螯合剂比较: 羧酸类螯合剂包括EDTA,DTPA,NTA,在H2O2,漂白水等氧化剂存在的情况下,会被氧化,从而失去螯合能力。 Dequest系列产品在H2O2等氧化剂中,可以稳定存在,,螯合能力可以继续保持。DEQUEST系列双氧水稳定剂DEQUEST 2010双氧水稳定剂-DEQUEST 2010-望界供。
各类化妆品因过渡金属离子的存在而发生变色、变质的问题,烫发类产品中所含有的过氧化物,由于金属离子的存在而发生过快分解,甚至在使用中导致毛发的损伤。TURPINAL系列产品可有效提升包括染发产品在内的化妆品的稳定性,使用更安全。 上海望界供TURPINAL系列产品:TURPINAL SL-依替膦酸,TURPINAL 4NP-依替膦酸四钠,TURPINAL 4NL-依替膦酸四钠 特性和用途:强力的过渡金属离子螯合性,化妆品级高纯度,用作染发剂等个人护理产品的双氧水稳定剂
Dequest的发展史 •1963年,美国孟山都(MONSANTO)公司成功**推出了DEQUEST膦酸盐,用以替代铬在工业水处理的角色,**工业水处理配方至今. •1997年9月,依孟山都的内部调整,工业化学部成立了美国首诺公司(SOLUTIAINC.). •2007年6月,荷兰天富国际公司与首诺集团达成全球收购协议,将DEQUEST业务纳入天富(Thermphos)国际的产品系列. •2013年2月,意特化工(ITALMATCHCHEMICALSSPA)与荷兰天富国际公司达成全球收购协议,将DEQUEST业务纳入意特化工(Italmacthermphos)的产品系列.双氧水稳定剂-羟乙二膦酸-羟基亚乙基二膦酸价格电议-望界!
过氧化氢和过氧乙酸消毒剂,也会因金属离子的存在而发生过快分解,DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。 各类化妆品因过渡金属离子的存在而发生变色、变质的问题,烫发类产品中所含有的过氧化物,由于金属离子的存在而发生过快分解,甚至在使用中导致毛发的损伤。TURPINAL系列产品可有效提升包括染发产品在内的化妆品的稳定性,使用更安全。 Dequest 产品基本化学特性,基本化学特性: ·稳定的C-P键 ·很高的负电荷 ·完全的水溶性 ·很高的热分解和水解稳定性 Dequest系列主要产品应用:有机膦酸盐Phosphonates: ·工业水处理IWT ·纸浆&造纸Paper&Pulp ·洗涤剂和清洗剂Detergents,I&I ·个人护理PersonalCare ·陶瓷Ceramics ·电子Electronics清洗剂原料双氧水稳定剂DEQUEST 2010上海望界。DEQUEST系列双氧水稳定剂DEQUEST 2010
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上海望界DEQUEST系列螯合剂-双氧水稳定剂-双氧水稳定剂等。分散作用: 分散作用,使得生长中晶体和其他颗粒的聚结变得更加困难,DEQUEST能够牢牢的吸附在晶体表面,给以排斥性电荷,除了反絮凝和使固体分散的作用外,由于优越的水解稳定性,膦酸盐能够在一个相当长的时间内维持系统始终处于分散状态,这种性质,使得DEQUEST在一系列的反絮凝作用中,如TiO2, 高岭吐,钻孔泥,具有潜在的应用前景。这种分散作用使得DEQUEST在去污剂和清洗剂的配方中可以占有一席之地。DEQUEST系列双氧水稳定剂DEQUEST 2010
双氧水稳定剂-伊塔玛DEQUEST 2010螯合作用: ·分子结构中存在多个膦酸配位基团,使得Dequest®系列产品有良好的螯合功能。 ·膦酸分子与多种重金属,过渡金属结合,能够形成稳定的,水溶性复合物 ·对各种金属离子有很好的螯合能力(Ca,Mg,Fe,Cu,Mn,Al,…) Dequest®产品与常见螯合剂比较: 羧酸类螯合剂包括EDTA,DTPA,NTA,在H2O2,漂白水等氧化剂存在的情况下,会被氧化,从而失去螯合能力。 Dequest系列产品在H2O2等氧化剂中,可以稳定存在,,螯合能力可以继续保持。上海望界直销染发产品原料双氧水稳定剂TURPINAL 4NL;水处理剂双氧水稳定剂...